，他们就没想过产业化的事情。
而euv太超前，短期内根本无法实现。
我个人还是更看好尼康的干式157n技术路径。”
卿云笑了，他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题，更没兴趣和他聊技术路径路径，开口说道，
“荷兰的as正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”
程进闻言摇了摇头，“没用的，浸入式通过水滴折射确实可以跳过157n，直接做到134n波长，而后就会被65n的最高生产分辨率给卡住，到时候怎么办
小卿，光刻是要遵循瑞利公式的，为光源波长、na为数值孔径、k为光刻工艺系数，三者共同决定投影式光刻机分辨率cd。
光刻机的分辨率与光源波长成正比，想要制造出更小的尺寸，就需要缩短光源的波长，这也是光刻机世代
演变的核心。
所以，你不管怎么折射，最终还是要通过光源的波长来解决问题。”
熟知后事的卿云很清楚，程进说的是对的。
浸入式、浸没式、浸润式，其光源都是193n激光器，随后是根据瑞利公式的另一个参数孔径，来实现精度的提高。
再之后，便是二次曝光技术，同样是基于193n的光源。
而最终，在duv后，as还是走了波长135n的euv路径。
但那是十来年后的事情了。
彼时的as已经一家独大，它的领先优势可以随意切换赛道，但此时的光刻机市场却并非如此。
此时还是群雄混战时期，谁先突破，便是赢家通吃。
as与尼康佳能的光刻机之战，其实是一个弱者在走投无路之下，抱着光脚的不怕穿鞋的的赌命心态进行绝地突围的故事。
as能赢，并不在于林本坚的技术有多先进，而是在于林本坚给出了一个商业友好性极强的工艺方案。
在 as推出浸入式 193n产品的半年后，尼康也宣布自己的 1