完，罗离彻底无奈了。
以他目前的系统积分，居然只能买得起130nm级别的光刻机！还特么是DUV光源！！
DUV光刻机和EUV光刻机能比？
寒碜谁呢？
DUV光刻机大多采用的是波长为193nm级别的氟化氩准分子激光，或者波长为248nm的氟化氪准分子激光，单次曝光的极限制程在128nm到90nm之间，多次曝光虽然可以将精度提升至最高28nm，但却是以牺牲良品率为代价！
几乎每重复一次曝光，损坏的几率就增加一倍……靠DUV光刻机想要造出28nm制程芯片，至少需要曝光5次以上！
先不说你连续曝光五次最终能成功几个，就算成功了，28nm也远远解决不了钉子现在的危机。
更别提暴增的材料成本了。
光刻工艺的核心资源是一种叫做光刻胶的化学合成剂，这东西在国内也无法制造。
在层层垄断下，光刻胶的进口量就那么多，其他厂商会允许你这么浪费？
在目前，DUV光刻机受限于精度制程，已经无法满足后来14nm、7nm、5nm等更高制程的需求了，这时候就需要依靠EUV光刻机。
EUV光刻机采用的是一种13.5nm的极紫外光，可以在大约200平方毫米的面积下集成超过105亿颗晶体管。
用EUV光刻机制造7nm级芯片，只需要曝光一次。
在现阶段，
国产芯片仅能满足日常生产生活的基础要求，高端光刻机无法进入国内，高级芯片生产的困难还是很严峻。
钉子如果想真正解决芯片的问题，第一件需要解决的就是光刻机精度。
“既然不能制造光刻机，那能不能对现有的光刻机制程进行改进？”
罗离忽然有了一个大胆的想法。
众所周知，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，随着科技的进步，极限光源的波长也在不断缩小，从DUV光源的