前一世的2002年，鬼才林本健横空出世，他在一次交流会上，首次提出“沉浸式光刻”方案。
他的理论听起来很简单，就是利用水会影响光的折射率这一高中知识，在透镜和硅片之间加一层水，这样原有的193nm激光经过折射，不就直接越过了157nm的瓶颈，降低到了132nm吗？
随后，林本健带着他的沉浸式光刻方案前往米国、岛国、德国等地，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。
在这些巨头门看来，这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要担心污染，如果在这种“替代方案”花费精力，耽误了光源的研究，就有可能被对手反超。
因为林本健的这个想法太过简单或者说太过理想化，而且等于否定了其它巨头正在走的技术路线，遭到了各大半导体巨头的集体拒绝，而且一度给台积电施压制止林本健到处乱窜搅局。
当时在光刻机领域市场份额较小的荷兰厂家阿斯麦知道这个事情后，决定赌一把，因为这时候在市场里本来也无法和尼康等巨头竞争，他们押注沉浸式技术有可能实现以小博大。
于是林本健和阿斯麦双方一拍即合，双方合作仅用一年多的时间，也就是在2004年，阿斯麦就做出了第一台样机。
而林本健随后又说服了台积电使用这个方案，并完成了产品生产，让台积电在芯片制程技术上一举追上了之前遥遥领先的巨头英特尔。
台积电成功批量生产证明了浸入式技术的工艺可能性，而且浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，随后英特尔、IBM等公司纷纷决定跟进，购买阿斯麦的光刻机。
而尼康虽然随后也宣布自己的157nm产品样机完成，但是因为整个的技术并不是非常成熟，良品率还无法保证，没有人愿意购买它的产品。
随后，发现市场风向不对，尼康被迫将之前的研发成果浪费，开始做浸入式光刻机。
但此时，尼康却是已